Halbleiterpolierverfahren und Halterplatte
EP1020253
Art A3
23. Mai 2001
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1020253
- Aktenzeichen
- EP00300218
- Anmeldetag
- 13. Januar 2000
- Veröffentlichung
- 23. Mai 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B24B37/04B24B41/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Rackham, Stephen Neil
London, Großbritannien
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