Wässrige Dispersion zum chemisch-mechanischen Polieren, Verfahren zum Polieren von Halbleiterscheibenoberflächen und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung
EP1020501
Art A3
7. Januar 2004
Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1020501
- Aktenzeichen
- EP00100910
- Anmeldetag
- 18. Januar 2000
- Veröffentlichung
- 7. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09G1/02C09K3/14H01L21/321C09D17/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kabushiki Kaisha Toshiba
JSR Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
5.205 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
1.781 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Pellmann, Hans-Bernd, Dipl.-Ing
München, Deutschland
319
Patente gesamt
32
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
TBK
TBK · München
-
TBK-Patent
TBK-Patent · München