Photolithographisches Abtastsysteme mit einem dynamischen einstellbaren Schlitz
EP1020769
Art A3
11. Dezember 2002
Anmelder: ASML Holding N.V., SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1020769
- Aktenzeichen
- EP00100438
- Anmeldetag
- 10. Januar 2000
- Veröffentlichung
- 11. Dezember 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
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Fachgebiete
2
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Schwerpunkte
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-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München