Facettenreflektor-Kondensor für die EUV-Lithographie
EP1026547
Art A3
17. März 2004
Anmelder: ASML Holding N.V., SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1026547
- Aktenzeichen
- EP00101088
- Anmeldetag
- 20. Januar 2000
- Veröffentlichung
- 17. März 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B17/06G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München