Halbleiterbauelement mit einem insulierenden Film mit Hohlräumen und sein Herstellungsverfahren

EP1026726 Art A3 17. Oktober 2001

Anmelder: NEC Electronics Corporation, NEC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1026726
Aktenzeichen: EP00102466
Anmeldetag: 4. Februar 2000
Veröffentlichung: 17. Oktober 2001
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L23/522H01L21/31H01L23/532

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NEC Electronics Corporation
NEC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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