Chemische Dampfphasenabscheidung (CVD) von Silikatmaterialien mit hoher dielektrischer Konstante
EP1028458
Art A3
20. Dezember 2000
Anmelder: Texas Instruments Incorporated, TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1028458
- Aktenzeichen
- EP00100195
- Anmeldetag
- 13. Januar 2000
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2000
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316C23C16/40C23C16/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Texas Instruments Incorporated
TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
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Vertreten von
Degwert, Hartmut
München, Deutschland
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Schwepfinger, Karl-Heinz, Dipl.-Ing
NoneMünchen