Verfahren zum Aufbringen von Mustern auf einem Halbleitersubstrat und Photolithographie-Belichtungsmasken
EP1032025
Art A2
30. August 2000
Anmelder: NEC Electronics Corporation, NEC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1032025
- Aktenzeichen
- EP00103809
- Anmeldetag
- 23. Februar 2000
- Veröffentlichung
- 30. August 2000
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/027G03F1/14H01L21/768H01L21/321
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NEC Electronics Corporation
NEC CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NEC
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.
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Vertreten von
-
Betten & Resch
Betten & Resch · München