Verfahren zur Entfernung von Rückständen nach Photoresistveraschung
EP1032026
Art B1
17. September 2008
Anmelder: Axcelis Technologies, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1032026
- Aktenzeichen
- EP00301234
- Anmeldetag
- 17. Februar 2000
- Veröffentlichung
- 17. September 2008
- Erteilung
- 17. September 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311H01L21/321G03F7/42H01L21/3213H01L21/306
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Axcelis Technologies, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Axcelis Technologies
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
377 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Jacob, Reuben Ellis
London, Großbritannien
1.275
Patente gesamt
34
Fachgebiete
35
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
West, Alan Harry
NoneLondon