Verfahren zur Herstellung von Dualmetalgatter-Strukturen für CMOS Bauelemente

EP1032033 Art A3 12. Mai 2004

Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1032033
Aktenzeichen
EP00103406
Anmeldetag
24. Februar 2000
Veröffentlichung
12. Mai 2004
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/8234H01L21/8238
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Texas Instruments Incorporated
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Texas Instruments

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.

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