Halbleiterbauelement-Herstellungsverfahren zur Vermeidung von Fehlern und Erosion auf Grund von chemisch-mechanischem Polieren von Metall
EP1039530
Art A3
25. Oktober 2000
Anmelder: NEC Corporation, NEC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1039530
- Aktenzeichen
- EP00104654
- Anmeldetag
- 3. März 2000
- Veröffentlichung
- 25. Oktober 2000
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NEC Corporation
NEC CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NEC
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.
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