Verfahren zur genauen Ausrichtung eines Musters in der Herstellung einer Halbleitervorrichtung, und Belichtungsmaske

EP1041630 Art A2 4. Oktober 2000

Anmelder: NEC Compound Semiconductor Devices, Ltd., NEC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1041630
Aktenzeichen
EP00106740
Anmeldetag
29. März 2000
Veröffentlichung
4. Oktober 2000
Rechtsraum
EP
IPC
H01L23/544
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
NEC Compound Semiconductor Devices, Ltd.
NEC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

27.362 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen