Substrat auf der Basis von Silizium mit einer Yttriumsilikat enthaltenden Wärmedämmschicht und Verfahren zur Herstellung eines Gegenstands daraus
Anmelder: United Technologies Corporation, GENERAL ELECTRIC COMPANY, The United States of America, represented by the Administrator of the National Aeronautics and Space Administration (NASA), UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1044944
- Aktenzeichen
- EP00108257
- Anmeldetag
- 14. April 2000
- Veröffentlichung
- 26. Oktober 2005
- Erteilung
- 26. Oktober 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C04B41/50C23C4/04C23C28/04C04B41/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- United Technologies Corporation
GENERAL ELECTRIC COMPANY
The United States of America, represented by the Administrator of the National Aeronautics and Space Administration (NASA)
UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION - Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.
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US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Massachusetts. Historisch aktiv in Energieerzeugung, Luftfahrttriebwerken, Medizintechnik und Industrietechnik über verschiedene Geschäftsbereiche.
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Hiebsch, Gerhard F., Dipl.-Ing
NoneSingen