Verfahren zur Herstellung einer Siliziumnitridschicht als Kondensator-Dielektrikum
EP1047117
Art A3
29. Januar 2003
Anmelder: Oki Electric Industry Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1047117
- Aktenzeichen
- EP00104967
- Anmeldetag
- 8. März 2000
- Veröffentlichung
- 29. Januar 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/318H01L21/02H01L21/314H01L27/108H01L21/8242H01L21/321
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Oki Electric Industry Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Oki Electric Industry Co., Ltd.
Oki Electric Industry Co., Ltd. ist ein japanischer Elektronikkonzern mit Schwerpunkt auf Telekommunikations- und Informationssystemen sowie Halbleitern und entsprechenden Patenten.
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Kirschner, Klaus Dieter
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