Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Halbleiter-Wafern mittels einer gasgesättigten Lösung aus entionisiertem Wasser, einer temperaturkontrollierten Entgasung und megasonischer Anregung

EP1056121 Art A3 12. Oktober 2005

Anmelder: Infineon Technologies North America Corp., International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1056121
Aktenzeichen: EP00107681
Anmeldetag: 10. April 2000
Veröffentlichung: 12. Oktober 2005
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/00B08B3/08B08B3/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Infineon Technologies North America Corp.
International Business Machines Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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