Verfahren zur Erzeugung eines feinen Musters
EP1058155
Art A3
20. Dezember 2000
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha, SHARP KABUSHIKI KAISHA, ASM JAPAN K.K., Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1058155
- Aktenzeichen
- EP00111662
- Anmeldetag
- 31. Mai 2000
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2000
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09G03F7/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Sharp Kabushiki Kaisha
SHARP KABUSHIKI KAISHA
ASM JAPAN K.K.
Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Hofer, Dorothea
München, Deutschland
1.039
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29
Fachgebiete
8
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Prüfer, Lutz H., Dipl.-Phys
NoneMünchen