Objektiv, insbesondere Objektiv für eine Halbleiter-Lithographie-Projektionsbelichtungsanlage und Herstellungsverfahren
EP1063551
Art B1
2. Juni 2004
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Carl Zeiss 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1063551
- Aktenzeichen
- EP00108927
- Anmeldetag
- 27. April 2000
- Veröffentlichung
- 2. Juni 2004
- Erteilung
- 2. Juni 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B13/14G02B13/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT AG
Carl Zeiss - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Lorenz, Werner
Heidenheim, Deutschland
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