Mehrschichtiger Spiegel mit erhöhter Reflektivität für Extrem-Ultraviolett-Strahlung und lithographische Projektionsvorrichtung mit einem solchen Spiegel
EP1065532
Art B1
2. März 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASM LITHOGRAPHY B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1065532
- Aktenzeichen
- EP00305434
- Anmeldetag
- 28. Juni 2000
- Veröffentlichung
- 2. März 2005
- Erteilung
- 2. März 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/08G02B1/10G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASM LITHOGRAPHY B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Leeming, John Gerard
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