EUV-lithographische Projektionsvorrichtung mit einem optischen Element mit Deckschicht
EP1065568
Art B1
26. September 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASM LITHOGRAPHY B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1065568
- Aktenzeichen
- EP00305432
- Anmeldetag
- 28. Juni 2000
- Veröffentlichung
- 26. September 2007
- Erteilung
- 26. September 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B5/08G02B1/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASM LITHOGRAPHY B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Leeming, John Gerard
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