Halbleiterdünnschichtherstellungssystem

EP1067593 Art B1 24. Dezember 2008

Anmelder: NEC Corporation, SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD., NEC CORPORATION, Canon Anelva Corporation, ANELVA CORPORATION, SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1067593
Aktenzeichen: EP00250226
Anmeldetag: 8. Juli 2000
Veröffentlichung: 24. Dezember 2008
Erteilung: 24. Dezember 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NEC Corporation
SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
NEC CORPORATION
Canon Anelva Corporation
ANELVA CORPORATION
SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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🇯🇵 Sumitomo Heavy Industries

Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio. Sumitomo Heavy Industries fertigt Maschinenbauprodukte, Baumaschinen, Getriebe sowie Anlagen für Umwelttechnik und Schiffbau.

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🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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