Präparation eines Siliziumsubstrats

EP1073107 Art B1 26. Februar 2003

Anmelder: NTT ELECTRONICS CORPORATION, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1073107
Aktenzeichen
EP00306458
Anmeldetag
28. Juli 2000
Veröffentlichung
26. Februar 2003
Erteilung
26. Februar 2003
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/316H01L21/311H01L21/306G02B6/12
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
NTT ELECTRONICS CORPORATION
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen