Präparation eines Siliziumsubstrats
EP1073107
Art B1
26. Februar 2003
Anmelder: NTT ELECTRONICS CORPORATION, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1073107
- Aktenzeichen
- EP00306458
- Anmeldetag
- 28. Juli 2000
- Veröffentlichung
- 26. Februar 2003
- Erteilung
- 26. Februar 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316H01L21/311H01L21/306G02B6/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NTT ELECTRONICS CORPORATION
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
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10
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Schwerpunkte