Verfahren und Gerät zur Verbessern Einpoliger Zweiwege Mikroelektromechanischer Schalter
EP1075703
Art A1
14. Februar 2001
Anmelder: RAYTHEON COMPANY, Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1075703
- Aktenzeichen
- EP00915922
- Anmeldetag
- 1. März 2000
- Veröffentlichung
- 14. Februar 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01H59/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- RAYTHEON COMPANY
Raytheon Company - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Hall, Matthew Benjamin
London, Großbritannien
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