Mehrkanaliges Ausrichtsystem unter Verwendung eines Interferenzgitters

EP1076264 Art B1 30. August 2006

Anmelder: ASML Holding N.V., SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1076264
Aktenzeichen: EP00115757
Anmeldetag: 21. Juli 2000
Veröffentlichung: 30. August 2006
Erteilung: 30. August 2006
Rechtsraum: EP
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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