Sauerstofffreies Plasma-Entschichtungsverfahren
EP1077476
Art A3
25. Februar 2004
Anmelder: Axcelis Technologies, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1077476
- Aktenzeichen
- EP00306624
- Anmeldetag
- 3. August 2000
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311H01L21/3213H01J37/32G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Axcelis Technologies, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Axcelis Technologies
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
377 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Jacob, Reuben Ellis
London, Großbritannien
1.275
Patente gesamt
34
Fachgebiete
35
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Burke, Steven David
NoneLondon