Substratbehandlung (Plasma) mit Beachtung optischer Instabilitäten und Hintergrundstrahlung
EP1079415
Art A1
28. Februar 2001
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1079415
- Aktenzeichen
- EP00117642
- Anmeldetag
- 16. August 2000
- Veröffentlichung
- 28. Februar 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32G01B11/06H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kirschner, Klaus Dieter
München, Deutschland
863
Patente gesamt
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