Eine eine wässrige Dispersionszusammensetzung verwendende chemisch-mechanische Poliermethode zur Verwendung in der Herstellung von Halbleitervorrichtungen
EP1081200
Art B1
21. April 2004
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1081200
- Aktenzeichen
- EP00119200
- Anmeldetag
- 5. September 2000
- Veröffentlichung
- 21. April 2004
- Erteilung
- 21. April 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09G1/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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Vertreten von
Pellmann, Hans-Bernd, Dipl.-Ing
München, Deutschland
319
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