Verfahren zur Wärmebehandlung durch Laserstrahlen, und Halbleiteranordnung
EP1087429
Art B1
6. September 2006
Anmelder: MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA, Seiko Epson Corporation, SEIKO EPSON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1087429
- Aktenzeichen
- EP00907924
- Anmeldetag
- 8. März 2000
- Veröffentlichung
- 6. September 2006
- Erteilung
- 6. September 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/268H01L21/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA
Seiko Epson Corporation
SEIKO EPSON CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Electric
Japanisches Unternehmen, das Elektro- und Elektroniktechnik entwickelt und herstellt, darunter Automatisierung, Energie-, Klima- und Fahrzeugtechnik.
18.870 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Epson
Japanisches Unternehmen, das Drucker, Scanner, Projektoren sowie Uhrwerke und Sensortechnik entwickelt und herstellt.
7.261 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Hofer, Dorothea
München, Deutschland
1.039
Patente gesamt
29
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Prüfer, Lutz H., Dipl.-Phys
NoneMünchen