Kompakte Photokathode und Linsenanordnung für Elektronenstrahllithographie mit Hohem Produktionstakt

EP1090330 Art A2 11. April 2001

Anmelder: Applied Materials, Inc., Etec Systems, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1090330
Aktenzeichen
EP00919443
Anmeldetag
15. März 2000
Veröffentlichung
11. April 2001
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Applied Materials, Inc.
Etec Systems, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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