Vorrichtung und Verfahren zur Bearbeitung von Substraten
EP1094501
Art B9
31. Oktober 2007
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1094501
- Aktenzeichen
- EP00309179
- Anmeldetag
- 18. Oktober 2000
- Veröffentlichung
- 31. Oktober 2007
- Erteilung
- 31. Oktober 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
Waldren, Robin Michael
London, Großbritannien
1.488
Patente gesamt
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19
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