Durch PVD-IMP abgeschiedenes Wolfram und Wolframnitrid als Auskleidungs-, Barriere- oder Keimschicht
EP1094504
Art A3
22. August 2001
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1094504
- Aktenzeichen
- EP00309118
- Anmeldetag
- 17. Oktober 2000
- Veröffentlichung
- 22. August 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/285C23C14/00H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
655
Patente gesamt
33
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15
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