Durch PVD-IMP abgeschiedenes Wolfram und Wolframnitrid als Auskleidungs-, Barriere- oder Keimschicht

EP1094504 Art A3 22. August 2001

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1094504
Aktenzeichen
EP00309118
Anmeldetag
17. Oktober 2000
Veröffentlichung
22. August 2001
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/285C23C14/00H01L21/768
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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