Flachgraben-Isolationsstruktur für Bipolar-Transistoren
EP1094514
Art B1
29. August 2007
Anmelder: NEC Electronics Corporation, NEC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1094514
- Aktenzeichen
- EP00122610
- Anmeldetag
- 17. Oktober 2000
- Veröffentlichung
- 29. August 2007
- Erteilung
- 29. August 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L29/06H01L21/8249H01L21/331H01L27/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NEC Electronics Corporation
NEC CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NEC
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.
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