Nicht absorbierende Fotomaske und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP1096312
Art B1
24. Dezember 2008
Anmelder: ASML Holding N.V., SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1096312
- Aktenzeichen
- EP00122881
- Anmeldetag
- 20. Oktober 2000
- Veröffentlichung
- 24. Dezember 2008
- Erteilung
- 24. Dezember 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/08G03F1/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Weenink, Willem
Veldhoven, Niederlande
78
Patente gesamt
4
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München