Lithographischer Apparat mit Spülgassystem
EP1098226
Art A3
9. Januar 2002
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASM LITHOGRAPHY B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1098226
- Aktenzeichen
- EP00309645
- Anmeldetag
- 1. November 2000
- Veröffentlichung
- 9. Januar 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASM LITHOGRAPHY B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Raukema, Age
Veldhoven, Niederlande
119
Patente gesamt
19
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon