N-Sulfonyloxyimid-derivate und sie enthaltende strahlungsempfindliche Harzzusammensetzungen
EP1099691
Art B1
2. März 2005
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1099691
- Aktenzeichen
- EP00124457
- Anmeldetag
- 8. November 2000
- Veröffentlichung
- 2. März 2005
- Erteilung
- 2. März 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07D209/48C07D209/76G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Leson, Thomas Johannes Alois, Dipl.-Ing
München, Deutschland
4.590
Patente gesamt
34
Fachgebiete
21
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TBK-Patent · München