Aufschlämmung zum chemisch-mechanischen Polieren von Siliziumdioxyd
EP1106663
Art B1
2. November 2005
Anmelder: Eastman Kodak Company, CLARKSON UNIVERSITY, FERRO CORPORATION, EASTMAN KODAK COMPANY 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1106663
- Aktenzeichen
- EP00204319
- Anmeldetag
- 4. Dezember 2000
- Veröffentlichung
- 2. November 2005
- Erteilung
- 2. November 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09G1/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Eastman Kodak Company
CLARKSON UNIVERSITY
FERRO CORPORATION
EASTMAN KODAK COMPANY - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Eastman Kodak
US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Rochester (New York), traditionell führend in Fotografie- und Bildgebungstechnik. Aktiv in Drucktechnologien, Filmmaterialien sowie chemischer und optischer Bildverarbeitung.
5.597 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Haile, Helen Cynthia
Harrow, Großbritannien
1.759
Patente gesamt
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Fachgebiete
7
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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Nunney, Ronald Frederick Adolphe
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