Chemisch verstärkte, negativ arbeitende Resistzusammensetzung für Elektronenstrahlen oder Röntgenstrahlen

EP1109066 Art A1 20. Juni 2001

Anmelder: FUJIFILM Corporation, FUJI PHOTO FILM CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1109066
Aktenzeichen: EP00127268
Anmeldetag: 18. Dezember 2000
Veröffentlichung: 20. Juni 2001
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/038G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

12.204 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, ursprünglich als Fuji Photo Film gegründet, heute aktiv in Fotografie, Bildgebung, medizinischer Diagnostik und Spezialchemie.

1.748 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von