Vorrichtung zur Ozonbehandlung für ein Halbleiterbehandlungssystem
EP1109210
Art A1
20. Juni 2001
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1109210
- Aktenzeichen
- EP00917455
- Anmeldetag
- 25. April 2000
- Veröffentlichung
- 20. Juni 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205H01L21/31H01L21/324C23C8/12C23C16/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München