Lithographischer Apparat mit Vakuumkammer und interferometrischem Ausrichtungssystem
EP1111473
Art A3
21. April 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASM LITHOGRAPHY B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1111473
- Aktenzeichen
- EP00311544
- Anmeldetag
- 21. Dezember 2000
- Veröffentlichung
- 21. April 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASM LITHOGRAPHY B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
2.212
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte