Apparat und Prozess, dielektrische Schichten abzuscheiden
EP1111664
Art A3
9. Juni 2004
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1111664
- Aktenzeichen
- EP00126110
- Anmeldetag
- 29. November 2000
- Veröffentlichung
- 9. Juni 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316H01L21/768C23C16/34C23C16/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kirschner, Klaus Dieter
München, Deutschland
863
Patente gesamt
32
Fachgebiete
23
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Schwerpunkte