Lithographieverfahren und Maske zu dessen Durchführung

EP1117001 Art B1 9. Juni 2004

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1117001
Aktenzeichen
EP00125692
Anmeldetag
23. November 2000
Veröffentlichung
9. Juni 2004
Erteilung
9. Juni 2004
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/14
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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