Negative Resistzusammensetzung für Elektronenstrahlen oder Röntgenstrahlen

EP1117004 Art A3 13. August 2003

Anmelder: FUJIFILM Corporation, FUJI PHOTO FILM CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1117004
Aktenzeichen: EP01100113
Anmeldetag: 12. Januar 2001
Veröffentlichung: 13. August 2003
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/028

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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