Verwendung eines Ionisierten Druckgasstromes zur Entfernung von Schmutz von Gewebe
EP1121482
Art A1
8. August 2001
Anmelder: RAYTHEON COMPANY, Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1121482
- Aktenzeichen
- EP00945176
- Anmeldetag
- 6. Juli 2000
- Veröffentlichung
- 8. August 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- D06B1/02D06F35/00D06L1/04D06F43/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- RAYTHEON COMPANY
Raytheon Company - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Jackson, Richard Eric
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