Reflexionsmaske für die Photolithographie und Verfahren zu deren Herstellung
EP1121622
Art B1
6. August 2008
Anmelder: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1121622
- Aktenzeichen
- EP00958643
- Anmeldetag
- 28. Juli 2000
- Veröffentlichung
- 6. August 2008
- Erteilung
- 6. August 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G02B5/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
CEA (Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives)
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
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Fachgebiete
Vertreten von
Brykman, Georges
Paris, Frankreich
428
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Fachgebiete
16
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Schwerpunkte