Isolierender Film auf Basis von SiO2 und seine Herstellung
EP1122770
Art B1
9. August 2006
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1122770
- Aktenzeichen
- EP01102272
- Anmeldetag
- 31. Januar 2001
- Veröffentlichung
- 9. August 2006
- Erteilung
- 9. August 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Leson, Thomas Johannes Alois, Dipl.-Ing
München, Deutschland
4.590
Patente gesamt
34
Fachgebiete
21
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TBK · München
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TBK-Patent · München