Resistzusammensetzungen mit fluorhaltigen Polymeren, und Musterbildungsverfahren
EP1126322
Art A3
29. August 2001
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1126322
- Aktenzeichen
- EP01301347
- Anmeldetag
- 16. Februar 2001
- Veröffentlichung
- 29. August 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004C08F20/22C08F20/24C08F32/00C08F32/08C08F22/40C08F22/18C08F220/22C08F222/18C08F222/40C08F232/04C08F232/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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