Verfahren und Vorrichtung zur Röntgenstrahlen-Abschirmung einer Elektronenbestrahlungseinheit
EP1126502
Art A1
22. August 2001
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1126502
- Aktenzeichen
- EP01301427
- Anmeldetag
- 19. Februar 2001
- Veröffentlichung
- 22. August 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/09G21K5/10C03C25/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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