Plasmabehandlungsvorrichtung mit Innenelktrode und Plasmabehandlungsverfahren
EP1130948
Art B1
26. Januar 2011
Anmelder: IHI Corporation, Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd., ANELVA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1130948
- Aktenzeichen
- EP00957087
- Anmeldetag
- 11. September 2000
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2011
- Erteilung
- 26. Januar 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/46H01L21/3065C23F4/00C23C16/50// H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IHI Corporation
Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd.
ANELVA CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
IHI Corporation
Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.
1.709 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Prins, Adrianus Willem
Den Haag, Niederlande
1.547
Patente gesamt
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Fachgebiete
26
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Schwerpunkte