Wärmebehandlungsanlage
EP1132506
Art B1
11. Januar 2006
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1132506
- Aktenzeichen
- EP01101823
- Anmeldetag
- 26. Januar 2001
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2006
- Erteilung
- 11. Januar 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B31/12F27B17/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Liesegang, Roland
München, Deutschland
387
Patente gesamt
29
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte