Halbtonphasenschiebermaske, Rohling davon sowie Verfahren zur Erzeugung eines Musters
EP1132772
Art B1
17. Oktober 2007
Anmelder: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD., Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1132772
- Aktenzeichen
- EP00953435
- Anmeldetag
- 16. August 2000
- Veröffentlichung
- 17. Oktober 2007
- Erteilung
- 17. Oktober 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/08H01L21/027G03F1/00G03F1/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
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