Verfahren zur Herstellung von Synthetischem, Glasförmigem Siliciumdioxid

EP1134197 Art B1 7. Mai 2014

Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1134197
Aktenzeichen: EP00950065
Anmeldetag: 11. August 2000
Veröffentlichung: 7. Mai 2014
Erteilung: 7. Mai 2014
Rechtsraum: EP
IPC: C03B19/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

5.286 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

Vertreten von