MOCVD-Verfahren für einen Tantaloxidfilm

EP1136588 Art A3 26. November 2003

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1136588
Aktenzeichen: EP01106421
Anmeldetag: 21. März 2001
Veröffentlichung: 26. November 2003
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/40C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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